(OLED使用了由Wintrustek)
在陶瓷行業中,熱解硼硝酸鹽(PBN), 氮化鋁(ALN)和99.8%氧化鋁(氧化鋁) 通常用於OLED行業。
PBN坩堝 是一種由化學蒸氣沉積(CVD)技術產生的極其純淨的結晶型氮化硼。 PBN坩堝的純度比普通的硝酸硼陶瓷高得多。
CVD技術創造了pbn oled坩堝,所有氮化硼晶體平行於蒸氣沉積的表面生長。
PBN產品非常純淨,因為可以輕鬆控制氣體成分的純度。
憑藉其高密度,純度,缺乏有機金屬潤濕以及延長的使用壽命,PBN正在成為真空操作中的流行材料。 CVD方法為這種熱解硼硝酸鹽提供了幾乎完美的分層結構,從而產生各向異性導熱率,使其成為OLED工業中坩堝的合適材料。 OLED是一種正在發展的複雜顯示技術。這pbn oled坩堝 作為OLED生產過程中蒸發元件的主要容器。
高純度(99.999%)
易於清潔和可重複使用
在高溫下低水量
均勻的厚度和良好的加熱一致性
惰性與酸或鹼無反應
較高的熱電導率和應力抗性
2. 氮化鋁(ALN)坩堝
Aln坩堝是具有優質熱,機械和電氣的陶瓷成分。這些坩堝具有較高的導熱率,低介電常數,類似於矽的熱膨脹係數以及出色的電絕緣層。Aln坩堝具有低密度和出色的強度,使它們無毒且持久。
氮化鋁(ALN)陶瓷在房間和高溫下都具有良好的耐腐蝕性和穩定性。氮化鋁銅,鋁,銀或其他化學物質不能潤濕坩堝,並且對鋁,鐵和鋁合金的溶解具有抗性,使其成為合適的容器。因為氮化鋁具有抗熔融鹽等熔融鹽的耐藥性,因此利用氮化鋁坩堝而不是玻璃製造砷化甘氨酸半導體,從而消除了玻璃中的矽污染物,從而導致高硫化殼的高硫化甘油半導體。
在惡劣的情況下,99.8%氧化鋁坩堝 提供明顯的機械強度,耐腐蝕性和熱穩定性。 該坩堝用於各種行業的高純度熔化,鈣化和反應研究,包括晚期陶瓷,冶金,半導體生產和化學加工。 它可以反複使用而無需經歷結構變性,因為它對腐蝕性化學物質,侵略性爐渣和熔融金屬的抗性。