（OLED使用了由Wintrustek)

在陶瓷行业中，热解硼硝酸盐（PBN）, 氮化铝（ALN）和99.8％氧化铝（氧化铝） 通常用于OLED行业。

1. 热解硼硝酸盐（PBN）坩埚

PBN坩埚 是一种由化学蒸气沉积（CVD）技术产生的极其纯净的结晶型氮化硼。 PBN坩埚的纯度比普通的硝酸硼陶瓷高得多。

CVD技术创造了pbn oled坩埚，所有氮化硼晶体平行于蒸气沉积的表面生长。
PBN产品非常纯净，因为可以轻松控制气体成分的纯度。

凭借其高密度，纯度，缺乏有机金属润湿以及延长的使用寿命，PBN正在成为真空操作中的流行材料。 CVD方法为这种热解硼硝酸盐提供了几乎完美的分层结构，从而产生各向异性导热率，使其成为OLED工业中坩埚的合适材料。 OLED是一种正在发展的复杂显示技术。这pbn oled坩埚 作为OLED生产过程中蒸发元件的主要容器。

热解硼硝酸盐（PBN）OLED坩埚 特征：

• 高纯度（99.999％）

• 易于清洁和可重复使用

• 在高温下低水量

• 均匀的厚度和良好的加热一致性

• 惰性与酸或碱无反应

• 较高的热电导率和应力抗性
  
  

2. 氮化铝（ALN）坩埚

Aln坩埚是具有优质热，机械和电气的陶瓷成分。这些坩埚具有较高的导热率，低介电常数，类似于硅的热膨胀系数以及出色的电绝缘层。Aln坩埚具有低密度和出色的强度，使它们无毒且持久。

氮化铝（ALN）陶瓷在房间和高温下都具有良好的耐腐蚀性和稳定性。氮化铝铜，铝，银或其他化学物质不能润湿坩埚，并且对铝，铁和铝合金的溶解具有抗性，使其成为合适的容器。因为氮化铝具有抗熔融盐等熔融盐的耐药性，因此利用氮化铝坩埚而不是玻璃制造砷化甘氨酸半导体，从而消除了玻璃中的硅污染物，从而导致高硫化壳的高硫化甘油半导体。

3. 99.8％氧化铝（氧化铝）坩埚

在恶劣的情况下，99.8％氧化铝坩埚 提供明显的机械强度，耐腐蚀性和热稳定性。 该坩埚用于各种行业的高纯度熔化，钙化和反应研究，包括晚期陶瓷，冶金，半导体生产和化学加工。 它可以反复使用而无需经历结构变性，因为它对腐蚀性化学物质，侵略性炉渣和熔融金属的抗性。