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  • Feuille de céramique AlN en nitrure d'aluminium poli
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Feuille de céramique AlN en nitrure d'aluminium poli

Feuille de céramique AlN en nitrure d'aluminium poli
  • Densité : 3,31 g/cm3
  • Résistance à la compression : 2100 MPa
  • Dureté (Vickers) : 11 GPa
  • DÉTAIL DU PRODUIT

Description du produit

 

Le nitrure d'aluminium, formule AlN, est un matériau plus récent dans la famille des céramiques techniques. Bien que sa découverte ait eu lieu il y a plus de 100 ans, elle a été développée en un produit commercialement viable avec des propriétés contrôlées et reproductibles au cours des 20 dernières années.


Le nitrure d'aluminium a une structure cristalline hexagonale et est un matériau à liaison covalente. L'utilisation d'auxiliaires de frittage et de pressage à chaud est nécessaire pour produire un matériau dense de qualité technique. Le matériau est stable à des températures très élevées dans des atmosphères inertes. Dans l'air, l'oxydation de surface commence au-dessus de 700°C. Une couche d'oxyde d'aluminium se forme qui protège le matériau jusqu'à 1370°C. Au-dessus de cette température, une oxydation massive se produit. Le nitrure d'aluminium est stable dans les atmosphères d'hydrogène et de dioxyde de carbone jusqu'à 980°C.


Le matériau se dissout lentement dans les acides minéraux par attaque aux limites des grains et dans les alcalis forts par attaque des grains de nitrure d'aluminium. Le matériau s'hydrolyse lentement dans l'eau. La plupart des applications actuelles se trouvent dans le domaine de l'électronique où l'évacuation de la chaleur est importante. Ce matériau présente un intérêt en tant qu'alternative non toxique au béryllia. Des méthodes de métallisation sont disponibles pour permettre à l'AlN d'être utilisé à la place de l'alumine et du BeO pour de nombreuses applications électroniques

 

 Propriétés physiques

 

 Bonnes propriétés diélectriques

 Haute conductivité thermique

 Faible coefficient de dilatation thermique, proche de celui du Silicium

 Non réactif avec les produits chimiques et les gaz de traitement des semi-conducteurs normaux

 

Applications

 

 Dissipateurs de chaleur et dissipateurs de chaleur

 Isolateurs électriques pour lasers

 Mandrins, bagues de serrage pour équipement de traitement des semi-conducteurs

 Isolateurs électriques

 Manipulation et traitement des tranches de silicium

 Substrats et isolants pour dispositifs microélectroniques et dispositifs optoélectroniques

 Substrats pour colis électroniques

 Porte-puces pour capteurs et détecteurs

 Chiplets

 Pinces

 Composants de gestion de la chaleur laser

 Fixations en métal fondu

 Forfaits pour appareils à micro-ondes

Propriétés matérielles


Mécanique

Unités de mesure

SI/Métrique

(Impérial)

Densité

g/cc (lb/ft3)

3.26

-203.5

Porosité

% (%)

0

0

Couleur

grise

Résistance à la flexion

MPa (lb/po2x103)

320

-46.4

Module d'élasticité

GPa (lb/po2x106)

330

-47.8

Module de cisaillement

GPa (lb/po2x106)

Module de masse

GPa (lb/po2x106)

Coefficient de Poisson

0.24

-0.24

Résistance à la compression

MPa (lb/po2x103)

2100

-304.5

Dureté

Kg/mm2

1100

Résistance à la rupture KIC

MPa•m1/2

2.6

Température d'utilisation maximale

°C (°F)

(pas de charge)

Thermique




Conductivité thermique

W/m•°K (BTU•po/pi2•h•°F)

140–180

(970–1250)

Coefficient de dilatation thermique

10–6/°C (10–6/°F)

4.5

-2.5

Chaleur spécifique

J/Kg•°K (Btu/lb•°F)

740

-0.18

Électrique




Résistance diélectrique

ca-kv/mm (volts/mil)

17

-425

Constante diélectrique

@ 1MHz

9

-9

Facteur de dissipation

@ 1MHz

0.0003

-0.0003

Tangente de perte

@ 1MHz

Résistivité volumique

ohm•cm

>1014



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Emballage et expédition

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Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

ADRESSE:No.987 Huli Hi-Tech Park, Xiamen, Chine 361009
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